离子束沉积（IBD）

离子束沉积是一种多功能且柔性的薄膜沉积技术，可提供可靠，高质量，高性能的涂层，寻找应用2020欧洲杯比赛时间尤其在红外设备和高功率激光器中，用于研发和生产市场。

当Ionfab.^®，我们的离子束系统专门设计用于生产具有光滑表面和精确控制的厚度的高质量，高密度的薄膜。系统规格允许独立控制光束能量和离子电流密度，从而实现良好控制和可重复的沉积过程结果。

网络研讨会

与AR的离子束沉积图

重点福利

精确的沉积厚度和膜性能的微量控制
不匹配的批量均匀性和过程重复性
用于更高平均自由路径的低操作压力和较少的气体散射减少了孔隙率并包括在沉积膜中的气体
薄膜具有更高的胶片纯度和更好地控制化学计量
在沉积期间，可以在15℃和300℃之间控制衬底温度
改善胶片粘附的预清洁能力
超光滑涂层具有低散射，添加薄膜表面粗糙度〜埃ang
蚀刻/预清洁源允许在沉积期间衬底的照明进行辅助梁/等离子体控制膜特性（例如反应性沉积）
目标/基板的相对倾斜和可选的振荡允许精确调谐沉积轮廓和蚀刻而不是DEP的特性

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硬件

	Ionfab.
离子沉积源	150mm.
存放区域	高达200毫米
目标数量	最多4个目标
压纸尺寸	最多8英寸的晶圆
最终产品检测	双Xtal监视器或WLOM
压板旋转	高达500rpm.
压纸倾斜角度	光束之间0º至75º，呈衬底表面
压力	嵌入式加热器高达300ºC
压散冷却	流体冷却剂5℃至60℃，用HE或AR背面气体进行基板冷却（最多50Torr）
协助或预清洁来源	150mm和300mm的RF离子源

IBD如何工作？

来自靶的轰炸机和散纹材料的轰炸机，从而形成沉积在样品表面上的物质的羽流。离子束沉积的薄膜层性质，例如折射率，吸收，散射，粘附和填充密度，可以通过不同的光束参数（例如横梁通量和能量），相对于进入材料和气体流动来细化。

离子束沉积（IBD）使用离子束溅射沉积薄膜的三种方式之一：IBD，Ribd和IBAD。

反应离子束沉积（Ribd）：反应气体，如n₂或O.₂，在腔室内注射，同时沉积膜以调节氧化物或氮化物的化学计量。

离子束辅助沉积（IBAD）：辅助源也可以与沉积源结合使用以修改胶片的属性，因为它的成长是较大的。相同的源可用于在膜沉积之前进行预清洁以增强粘附性。

特征

沉积离子源：15cm，13.56 MHz驱动
通过来源的气体入口
多个目标，最多四个，带快门
三个网格集，钼，最大化沉积速率和胶片纯度
旋转和可倾斜的基板支架，具有高速旋转（最高500rpm）作为选项（标准20rpm）
原位监测特定的气体部分压力和闭环反馈控制能力，以提高薄膜特性的可重复性和微量控制（例如Vo_X）
专利的高速基板支架（高达500rpm）配备有白色光学光学监视器（WLOM），专为非常精确的原位光学膜控制而设计，特别是对于高功率激光器件

2020欧洲杯比赛时间

激光面涂层（包括高和抗反射）
环激光陀螺仪镜
X射线光学
II-VI基红外（IR）传感器
IR传感器（氧化钒，II-VI）
电信过滤器
金属轨道沉积：AU，CR，TI，PT，ZNS等
磁性材料：Fe，Co，Ni等

带离子束沉积的32层胶层镜片

带有IBD的32层笑镜

具有离子束沉积的7层胶片结构

具有IBD的7层咧嘴笑容

Ionfab离子束系统

Ionfab是我们灵活的离子束蚀刻和沉积系统，专为研究，飞行员和全规模生产而设计。该系统提供了两个腔室选项;标准且大，使IBD在晶片上的IBD进程高达200毫米。

特定应用的配置优化允许生产具有超低污染的高质量薄膜
提供出色的均匀性和再现性
非常精确的原位光学胶片控制（原位WLOM，高速选项）

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Ionfab离子束系统